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　　自 2025 年 4 月新一輪中美關(guān)稅博弈啟動(dòng)，全球科技產(chǎn)業(yè)鏈陷入震蕩，UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)也被卷入這場(chǎng)風(fēng)暴，面臨著前所未有的挑戰(zhàn)與機(jī)遇。

　　關(guān)稅沖擊下的產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀

　　成本飆升：產(chǎn)業(yè)鏈的沉重負(fù)擔(dān)

　　美國(guó)在半導(dǎo)體設(shè)備和材料領(lǐng)域占據(jù)技術(shù)與市場(chǎng)優(yōu)勢(shì)，中國(guó)相關(guān)企業(yè)對(duì)美國(guó)供應(yīng)商存在一定依賴(lài)。關(guān)稅加征使進(jìn)口設(shè)備和材料價(jià)格大幅上漲，以光刻膠為例，其關(guān)鍵原材料部分依賴(lài)進(jìn)口，關(guān)稅導(dǎo)致采購(gòu)成本顯著增加，企業(yè)生產(chǎn)成本控制難度劇增。在 UV 光固化產(chǎn)業(yè)，從光引發(fā)劑到相關(guān)設(shè)備，若涉及美國(guó)進(jìn)口，成本均受沖擊。如國(guó)內(nèi)某 UV 光固化產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)，因部分光引發(fā)劑從美國(guó)進(jìn)口，關(guān)稅后采購(gòu)成本上漲 20% - 30%，嚴(yán)重壓縮利潤(rùn)空間。

　　供應(yīng)鏈斷裂風(fēng)險(xiǎn)加劇

　　關(guān)稅打亂原有供應(yīng)鏈節(jié)奏，美國(guó)供應(yīng)商或因成本考量減少供貨甚至中斷合作，貨物運(yùn)輸也面臨清關(guān)時(shí)間延長(zhǎng)、物流成本增加等問(wèn)題。在光刻膠產(chǎn)業(yè)，日本雖為光刻膠供應(yīng)大國(guó)，但中美關(guān)稅戰(zhàn)背景下，供應(yīng)鏈穩(wěn)定性受影響，一旦美國(guó)對(duì)相關(guān)原材料出口進(jìn)一步限制，依賴(lài)進(jìn)口光刻膠及原材料的企業(yè)將面臨停產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn)。UV 光固化產(chǎn)業(yè)同樣如此，若關(guān)鍵零部件供應(yīng)受阻，生產(chǎn)將陷入停滯，部分企業(yè)已開(kāi)始囤積 6 個(gè)月庫(kù)存以應(yīng)對(duì)可能的供應(yīng)中斷。

　　產(chǎn)業(yè)內(nèi)部的應(yīng)對(duì)之策

　　國(guó)產(chǎn)替代加速推進(jìn)

　　面對(duì)關(guān)稅帶來(lái)的進(jìn)口阻礙，中國(guó)政府與企業(yè)加大在相關(guān)領(lǐng)域研發(fā)投入與政策支持力度，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。在光刻膠方面，國(guó)家大基金三期投入超 500 億元支持研發(fā)，南大光電的 ArF 光刻膠已通過(guò) 28nm 制程驗(yàn)證，2025 年規(guī)劃產(chǎn)能達(dá) 5000 噸;晶瑞電材 KrF 光刻膠已通過(guò)中芯國(guó)際驗(yàn)證，ArF 光刻膠研發(fā)順利，受益于政策支持，目標(biāo) 2025 年國(guó)產(chǎn)化率提升至 10%。在 UV 光固化產(chǎn)業(yè)，國(guó)內(nèi)企業(yè)也在積極突破技術(shù)瓶頸，減少對(duì)進(jìn)口光引發(fā)劑等原材料的依賴(lài)，部分企業(yè)已在電子行業(yè)用 UV 光固化膠粘劑開(kāi)發(fā)方面取得成果，應(yīng)用于手機(jī)揚(yáng)聲器、攝像模組等領(lǐng)域 。

　　企業(yè)積極調(diào)整策略

　　相關(guān)企業(yè)通過(guò)技術(shù)替代、國(guó)內(nèi)供應(yīng)鏈調(diào)整及提前備貨等策略降低風(fēng)險(xiǎn)。南大光電明確原材料主要來(lái)自國(guó)內(nèi)供應(yīng)商，對(duì)美國(guó)市場(chǎng)直接出口收入占比不足 0.5%，且通過(guò)國(guó)產(chǎn)替代和提前備貨，降低供應(yīng)鏈中斷風(fēng)險(xiǎn)。久日新材對(duì)美國(guó)市場(chǎng)出口占總營(yíng)業(yè)收入約 8%，因多數(shù)產(chǎn)品未被關(guān)稅覆蓋，短期內(nèi)美國(guó)市場(chǎng)對(duì)其光引發(fā)劑需求依舊強(qiáng)勁。部分企業(yè)還加速向其他地區(qū)轉(zhuǎn)移產(chǎn)能，雖面臨遷移成本與效率損失，但一定程度上緩解關(guān)稅壓力 。

　　長(zhǎng)遠(yuǎn)視角下的發(fā)展趨勢(shì)

　　技術(shù)創(chuàng)新成為核心驅(qū)動(dòng)力

　　在關(guān)稅戰(zhàn)背景下，企業(yè)更重視技術(shù)創(chuàng)新以提升競(jìng)爭(zhēng)力。光刻膠產(chǎn)業(yè)中，7nm 以下先進(jìn)制程所需的 EUV 光刻膠成為研發(fā)重點(diǎn)，國(guó)內(nèi)企業(yè)正加大研發(fā)投入以期突破。UV 光固化產(chǎn)業(yè)也在不斷探索新技術(shù)，如研發(fā)高效光引發(fā)體系、拓展單體與交聯(lián)劑選擇范圍等，以提升固化效率、改善產(chǎn)品性能、降低成本，滿(mǎn)足市場(chǎng)對(duì)高性能、環(huán)保產(chǎn)品的需求 。

　　產(chǎn)業(yè)格局重塑與市場(chǎng)機(jī)遇涌現(xiàn)

　　關(guān)稅戰(zhàn)促使全球 UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)格局重塑。一方面，國(guó)內(nèi)企業(yè)憑借國(guó)產(chǎn)替代機(jī)遇擴(kuò)大市場(chǎng)份額;另一方面，新興技術(shù)如量子計(jì)算芯片、碳納米管芯片等發(fā)展，為光刻膠及相關(guān)材料帶來(lái)新應(yīng)用場(chǎng)景。同時(shí)，物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、大數(shù)據(jù)等領(lǐng)域快速發(fā)展，對(duì)半導(dǎo)體及相關(guān)材料需求大增，UV 光固化與光刻膠產(chǎn)業(yè)作為基礎(chǔ)，有望在新應(yīng)用場(chǎng)景中開(kāi)拓市場(chǎng)，迎來(lái)新增長(zhǎng)點(diǎn) 。